JSR
JSR Corporation
1957年創業の化学メーカー。合成ゴムから転換し、ArFフォトレジストで世界シェアNo.1を誇る半導体材料のトップ企業。2024年に日本政府系ファンドJIC（産業革新投資機構）によるTOBで上場廃止。日本の半導体産業の「国策再編」の中核として業界再編を主導。
主要サービス
半導体フォトレジスト
半導体チップに回路パターンを焼き付ける感光材料。ArFフォトレジスト・液浸ArFフォトレジスト・EUVフォトレジストで世界シェアNo.1クラス。世界の半導体の約1/3にJSR製材料が使用されている。
半導体プロセス材料（絶縁膜・CMP材料）
半導体製造の各工程で使われる絶縁膜形成材料・CMP（化学機械研磨）スラリー等の精密化学材料。ArFフォトレジストと並ぶ高利益率のコア事業。
合成ゴム・エラストマー
自動車タイヤ・工業用ゴム向けの合成ゴム（SBR・BR等）。JSR創業事業。半導体材料への転換後もエラストマー事業は継続。2022年に日本合成ゴム（JGC）と統合。
ライフサイエンス材料
医療診断用ラテックス・細胞培養材料など医療・ライフサイエンス向け高機能材料。半導体に次ぐ第3の柱として育成中。
戦略・方針
JIC傘下での業界再編（国策M&A） (2024)
2024年、日本政府系ファンドJICによる約1兆円のTOBが成立し上場廃止。「日本の半導体材料の国際競争力強化」を国家戦略として、JSRが中核となり同業他社の統合・再編を主導する役割を担う。
半導体材料への集中（脱ゴム） (2022)
合成ゴム事業を売却・分離し、半導体材料（フォトレジスト・プロセス材料）に経営資源を集中。高利益率（コア営業利益率23%以上）を維持しながら次世代EUVフォトレジスト開発に投資。
EUVフォトレジストの次世代開発 (2023)
次世代の極端紫外線（EUV）フォトレジストの研究開発を加速。米InpriaをM&Aで取得（2021年）し、メタルオキサイドレジストなど次世代材料でも世界トップポジションを狙う。
最終更新: 2026/4/14