SCREENの成長戦略と将来性
Value Up 2028で売上8,000億円を目指す。洗浄装置の構造的な成長と将来性を検証。
安定性の根拠
洗浄装置3分野で世界首位
半導体工場の30〜40%が洗浄工程。装置を選ぶ際のデフォルトがSCREEN。代替が効かない。
微細化→洗浄回数増→構造的に成長
2nm以降では1枚のウェーハを数百回洗浄する。微細化が進むほどSCREENの装置が必要になる。
過去最高益を更新中の勢い
2025年3月期で売上・利益とも過去最高。中期計画では2028年度に売上8,000億円を目指す。
成長エンジン
先端プロセス対応
EUV・GAA世代で洗浄回数が増加。1ウェーハあたりの洗浄回数が2倍になれば装置需要も2倍。
新規ファブの大量建設
TSMC熊本・Intel US・Samsung テイラーなど大型ファブの新設ラッシュ。各ファブに洗浄装置を数十台納入。
環境対応洗浄技術
薬液使用量削減・水使用量削減のグリーン洗浄技術。環境規制強化で差別化要因に。
AI・デジタルで変わること / 変わらないこと
変わること
- 洗浄条件のAI最適化:薬液濃度・温度・時間をAI制御
- 予知保全:装置センサデータから故障を予測
- 品質管理のデジタル化:洗浄後のパーティクル数をリアルタイム監視
変わらないこと
- 洗浄の物理・化学プロセス:超純水・薬液による洗浄は物理現象
- 装置の精密製造:ナノメートル精度の洗浄チャンバーはAIでは作れない
- 顧客ファブでの技術サポート:プロセス条件の現場合わせは人間の仕事
ひよぺん対話
2028年に売上8,000億円って達成できそう?
半導体市場の成長が計画通りなら十分に射程圏内。TSMC・Samsung・Intelの設備投資計画から逆算すると、洗浄装置の需要は増えこそすれ減ることはない。ただし米中摩擦で中国向けが制限されるリスクと、半導体サイクルの不況入りがあれば達成時期がずれる可能性はある。
AIでSCREENの仕事はどう変わる?
洗浄は化学プロセスだからAIに代替されない。ただし洗浄条件の最適化にAIを活用する動きは進んでいる。薬液の濃度・温度・時間をAIで最適制御すると、洗浄品質を上げながら薬液使用量を削減できる。環境対応とコスト削減を同時に実現するAI活用だよ。